电子光电行业，由于其人员密集性，而人员又是洁净室最主要的污染源，所以在设计、人员动向、管理、节能等方面都要做到全面的考量。

光学微电子净化工程一般包括：

1、 洁净生产区；

2、 洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)；

3、 管理区(包括办公、值班、管理和休息等)；

4、 设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)。

光学微电子净化工程净化原理

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌

等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数：100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa

平均风速：10级、100级0.3-0.5m/s;温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。

温度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

光学微电子净化工程结构材料

1. 净化厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造，其特点为美观、刚性强。圆弧墙 角、门、窗框等一般采用专用氧化铝型材制造。

2.地面可采用环氧自流坪地坪或高级耐磨塑料地板，有防静电要求的，可选用防静电型。

3.送回风管道用热渡锌板制成，贴净化保温效果好的阻燃型PF发泡塑胶板。

4.高效送风口用不锈钢框架，美观清洁，冲孔网板用烤漆铝板，不生锈不粘尘，宜清洁

随着集成电路光刻等工艺发展，其生产环境对洁净度要求也越来越高，CLASS 100/10级，甚至1级。

我司设计团队将根据客户所属产业实际情况、工艺要求、管理需求，按节能环保的要求，提供洁净室及配套系统整厂规划设计。

1、Class 1K 、10K 、100K分产品需求有不同等级无尘室；

2、压缩空气、有机排气等生产配套系统；